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為什麽(me)玻璃拋(pāo)光與鍍(dù)膜前後會使用中性清洗劑

為什麽玻璃拋光與鍍膜前後會使用中性清洗劑

玻璃中性清洗劑是(shì)一種用於清洗光學玻璃氧(yǎng)化鈰拋光(guāng)粉與鍍膜前後(hòu)的水基清洗劑,它的主要成分是中性表麵活(huó)性(xìng)劑和輔助成(chéng)分,可以有效地去(qù)除玻璃表麵的切(qiē)削液、硝酸(suān)鉀、拋光粉/液、油墨、瀝青(qīng)、白點、灰塵等雜質,同時不…
不鏽鋼與陶瓷(cí)表帶拋光蠟殘留應該使用什麽清洗劑(jì)

不鏽鋼與陶瓷表帶拋(pāo)光蠟(là)殘留應該使用什麽清洗劑

目前(qián)市麵上主流的表帶有四(sì)種,分別是不鏽(xiù)鋼表(biǎo)帶、陶瓷表帶、橡膠表帶、以及尼龍表帶,這些表帶對清洗要(yào)求相對比較高,一般都需要對其表麵殘餘的各種拋光蠟垢、油汙進行清洗去除,普通的清洗(xǐ)劑,因配方不同,除蠟時間…
半導(dǎo)體製造的關鍵是晶圓級清洗劑

半導體製造(zào)的關鍵是晶圓級清洗劑(jì)

晶圓級清洗劑是(shì)一種用於半導體工業的水(shuǐ)基清洗劑,其功能是去除半導體晶圓表麵的雜質和汙染物,以(yǐ)確保(bǎo)半(bàn)導體(tǐ)製造過程的質量和穩定性。在半導體製造過程中,晶圓級清洗(xǐ)劑扮演著至關重要的角色。
如何選擇矽晶片清洗劑的幾(jǐ)個參考因數

如何選擇矽晶片清洗劑的幾個參考因數

矽晶片是現代電子設(shè)備中不可或缺的關鍵元件,它們被廣(guǎng)泛應用於集(jí)成(chéng)電路、計(jì)算機芯片、太(tài)陽能電池等領域,在(zài)矽晶片的製造和加工過(guò)程中,可(kě)能會產(chǎn)生各(gè)種汙染物,例如塵埃、油脂(zhī)、溶劑(jì)殘留、金屬離子等。這些汙染物會降…
使用PCB專用(yòng)清(qīng)洗劑需要考慮的幾個特點

使用PCB專用清洗劑需(xū)要考慮的幾個特點

PCB是電子產品中重要(yào)的基礎組件,上麵安裝(zhuāng)了各種電子元件,如電容、電(diàn)阻、集成電路等,而為了確保(bǎo)PCB的正(zhèng)常工作和延長其使用壽命,清洗是一個不(bú)可或缺的步驟,PCB專用清洗(xǐ)劑是一種用於清洗電子線路板的水基…

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